Confermati i primi ospiti internazionali di RMI – Ricerca Moda Innovazione 2019: si tratta di Ricardo Quispe De Agulia dal Perù e di Rahma Saidana dalla Tunisia. I due giovani designer saranno ospiti di CNA Federmoda durante l’edizione di RMI 2019 che si svolgerà nell’ambito di Altaroma luglio 2019.
“Ormai dal 2000 RMI ha assunto una dimensione di piattaforma internazionale per il confronto sulla creatività giovanile – dichiara Antonio Franceschini, Responsabile Nazionale CNA Federmoda – da quando decidemmo di affiancare al Concorso Nazionale Professione Moda Giovani Stilisti un momento aperto a realtà internazionali al fine di condividere esperienze e dare la possibilità ai giovani finalisti delle scuole italiane di poter osservare e conoscere designer provenienti da varie parti del mondo”. Per quanto riguarda questi due primi giovani stilisti il loro coinvolgimento in RMI nasce da accordi di collaborazione che CNA Federmoda ha definito con Expotextil Perù e con il Festival de la Mode di Tunisi.
“Con queste partnership, che anche quest’anno trovano il supporto di ICE Agenzia – spiega Marco Landi, Presidente Nazionale CNA Federmoda – intendiamo sia creare ponti culturali ma anche occasioni di relazioni tra le imprese italiane del settore, con particolare riferimento a quelle che operano a monte della filiera, e realtà internazionali spesso alla ricerca di competenze e conoscenze per la realizzazione delle loro collezioni”. Ecco quindi che durante RMI vi saranno anche momenti di b2b tra i designer provenienti dall’estero presenti e imprese italiane del settore. Una modalità questa che già in passato ha dato la possibilità a nostre imprese di sviluppare operazioni commerciali” continua Landi.
Nelle prossime settimane sono attese altre conferme di stilisti internazionali a RMI 2019 che, ricordano da CNA Federmoda, quest’anno sarà affiancato anche da Rebelpin il concorso europeo per designer promosso da ACTE l’Associazione delle Comunità Tessili d’Europa che ha scelto Altaroma luglio 2019 sede per la prossima edizione.